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项目名称：中国电子科技集团公司第十三研究所接触光刻机设备采购
招标项目编号：****-**4JT****ZB6
招标范围：（1）具有稳定可靠的晶圆厚度补偿系统，可对晶圆进行自调平和真空吸附。（2）通过计算机软件进行工艺参数的设定、设备的控制等。（3）最大有效曝光范围：**0mm。（4）具备晶圆正面和背面套刻，可实现双面光刻工艺。
招标机构：中国远东国际招标有限公司
招标人：中国电子科技集团公司第十三研究所
开标时间：****-**-** **:**
公示开始时间：****-**-** **:**
评标公示截止时间：****-**-** **:**
中标候选人名单：
| 候选人排名 | 投标商名称 | 制造商 | 制造商国别及地区 |
|---|---|---|---|
| 1 | SUSS MicroTec Lithography GmbH | SUSS MicroTec Solutions GmbH & Co. KG | 德国 |
